硅片清洗及最新发展(20180723094134)-solarbe文库

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硅片清洗及最新发展摘要本文首先分析了太阳能硅片表面存在的污染物，在此基础上重点阐述了太阳能硅片的几种清洗方法，并指出其发展趋势。关键词太阳能硅片；硅片清洗；硅片表面污染0 引言当前，我国光伏产业发展迅速，我国的太阳能电池年生产量在全球排名第一。太阳能硅片的清洁程度对太阳能电池的继续发展有着很大的影响，所以人们对太阳能硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求。太阳能硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等加工过程中，表面会受到不同程度的污染，比如颗粒、金属离子以及有机物。如果没有处理好这些污染的话，器件性能会受到很大程度的影响。目前，制造总损失的一半是因为硅片清洗不当引起的器件失效。因此，人们对太阳能硅片清洗技术的研究在不断的深入。本文将对硅片表面污染类型进行简单的介绍，在此基础上阐述几种常用的太阳能硅片清洗方法及其最新发展方向。1 硅片加工表面污染类型硅片污染发生的概率比较大，因为在硅片加工过程中，不可能做到无污染的程度。污染途径可能来源于大气、水、使用的化学试剂、人以及加工过程中。污染物可以分为以下几种类型颗粒、有机物和金属。1）颗粒颗粒的类型主要是一些聚合物、光致抗蚀剂等；2）有机物它可以有很多种存在方式，如润滑油、松香、蜡等。如果这些物质没有得到有效清洗的话，后面的加工过程会受到很大影响；3）金属它在硅片上主要以共价键、范德华引力和电子转移等三种形式存在。金属的存在会破坏掉氧化层，导致雾状缺陷或微结构缺陷。2 太阳能硅片清洗常用的几种方法2.1 RCA 清洗法RCA 清洗法是一种典型湿式化学清洗，虽然发明的时间比较早，当时的科技没有现在发达，但它在各种清洗方法中仍占重要地位。 RCA 清洗在清除有机表面膜、粒子和金属等污染物时十分有效，这也是为什么它能够得到广泛的应用。但该清洗方法也存在很多缺点比如清洗过程中要用到大量的不同的化学试剂，对环境污染比较严重；又因为清洗过程主要是在高温环境下，这就需要用到很多的液体化学品和水；同时为了抑制化学试剂的蒸发，需要用到大量的空气；化学试剂的使用会加大硅片的粗糙度。所以，耗用化学品大、排放量大和污染环境已

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