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N型高效电池设备国产化进展 常州捷佳创研发部2018/10 1未来需要什么技术,装备2TOPCN电池设国产化进展3HI备4小结Outline 光伏装机规模持续增长,预测将在205年达到TW级别;度电成本下降部分地区已经实现发电侧平价上网未来需要什么技术我国的和装备处于水平高端设产化进程如何未来需要什么技术什么装备 单晶将以先天的优势取得未来市场的主要份额,ITRP2018预测N型硅片的市场占有率将持续增加,20年近10,28达到28;l N-PERT和-L 已经实现了双面量产效率最高可以达到3;但与双面PERC比无性价优势;异质结HI电池也,更多公司规划模生线效率已经突破24,热度高涨突出 IBC目前平均效率23。但对硅片质求较制成复杂本昂不Topcn构无须背开孔和准极大的简化了电池产工艺良好的钝化能或可成为下一代产业化N型高的切入点高效发展路线新的世界纪录l异质结(Kanek)26. N-type单晶Fruhofr ISE5.8 多3-tP型电池N SC产品链 常规工艺P-多晶/单P-ERC/TOPConN-HITN-IBC制绒刻蚀清洗机金属化镀膜钝化PN结制备多晶链式绒槽制/酸刻蚀碱PECVD热氧退火设备常规管式扩散低压/PECVDSiON钝化热氧退火/槽式制绒酸刻蚀碱RA/BELPCVDE磷/硼扩散设备离子注入研发中待定清洗设备RCA/湿法刻蚀PV/RDC制绒CA/其他PEVD硼扩散设备待定工序从型到N,从常规到高效可提供全套厂自动设备交钥匙工程服务 N-TOPCN主流工艺路线及设备厂家Topcn 技术PERT电池结构示意图Topc电池因其优异的钝化效果,以及与现有产线的兼容性,得到高度关注。目前设备国产进程良好未来仍降本空间国钝化设备预计会在2019-年批量上线,但目前各家在路线选择上稍有差尚全部规模量;隧穿效应示意图 N-TOPCN主流工艺路线及设备厂家序选型 SC可提供产能PCS/hour国产设备进展自动化/全自动化根据线匹配化制绒清洗单晶制绒60-8正面P硼扩散/注入3已入刻蚀背可提供国产隧穿层BOE 40化硅薄膜LPCVD/AP样机测试中36设备开始进面N磷扩散注入5已入刻蚀正可提供0国产 钝化Al2O3/-镀PECVD4化背膜0印刷/待定5流工艺程 N-TOPCN电池S硼扩散设备计特点液态Br3 作为掺杂源方块阻及均匀性65Ω,片内/- 间批/-5大产能120/舟,5管 B2O3 Si n型 Bi快速的温度斜变能力 平坦温区的模糊控制微负压下稳态控制创新尾排和炉口设计 N-TOPCN电池SLVD设备计特点 p 两层膜分开制-氧化(60开始入O3非晶硅沉积T-VD/360国产设备研发阶段PEC研发中预计2019年可推出TCOV60RPD28 电极制备丝网印刷待定50国产设备开始进入铜镀- HIT主流艺路线及设备家艺流程 HIT制绒清洗设备计重点HIT制绒清洗工艺制绒与传统单晶制绒工艺流程类似,面尺寸略大;Roundig未涉及目前使用HNO3/FClean高洁净度表面Know H SC-ZT系列制绒清洗设备,在常规制绒基础上从设计到加工、安装运输等各个环节全面升级净产能60pcs/hour 如何高度一致性的绒面结构 ·槽内一致性 体循环死角;流量 鼓泡方式/等加热 ·工艺寿命 定排补(挥发、副产物,带走入);机械臂横移过程中如何防止度反应 ·Rounding 控温方式;如何制反应速率 外观 NG 绒面 NG ·气体污染·固体污染 ·液体污染 ·烘干二次污染 常规槽材质在强氧化剂长时间会存析出物; 管道、阀门等其他备件P,VDF无法适用 外界空会进入机台内部;反应如何快速排走 槽间交叉 串槽导致交叉;循环死角 反应副产物化学品纯度 高温导致表面氧化;气体流向差异 湿度影响时间 ELNGF如何实现高洁净度的晶硅表面 BATH.NOSC1DIWSEITEXDIWSC1DICPIWSC2DIHFIWPREDYchemial3IKOHIad.K.IKOH2IFHNO3IlIII SC-HIT制绒清洗设备计特点PreClan,采用O3清洗方案可兼容H2SDETX6Bath使进口A添加兼容国产剂全新第六代槽体设计PostClean采用S1清洗 槽可使用传统/也清洗;SC2 bathHF1oDI全新低温烘干结构高质量表面硅片尺寸(m)Wafer Siz 156X可兼容更大尺寸UPTIME 9破率BrkgRt 50GW设备销售产业分布 ◆旗下拥有二大著名晶体硅电池装备品牌“捷佳伟创”和“捷佳创”。 常州捷佳创深圳捷佳伟创 深圳创翔软件 捷佳伟创集团 干法光伏设备智能制造硬件光电设备MOCVD 光伏湿法设备半导体石墨烯等新材料 智能制造软件控中心云平台数据管理 前身弘元光伏为公司中试基地现为纯财务投资,占有49股份,不参与经营及管理 湖北天合 股票代码30724 关于捷佳伟 两个基地1.深圳(750人)2常州4员工数统计至218.6三个发展阶段1. 203-6年,专业化71规模. ,国际四大优势1. 产能2项目管理3. 整线配套4工艺支持领军关于捷佳伟创 小结ü未来单晶将以先天的优势取得未来市场的主要份额,目前高效电池中TOPcon以及HIT电池会逐步成为主流厂家选择。üOPCN,硼扩散设备及SC-LPVD设备均采用大产能5管120片/设计,满足产业化需求;HIT制成SC目前可以提供制绒清洗,CV及P研发中,预2019年可以推出其中清洗计整体升级如下 全新的槽循环结构,能力(循环、鼓泡溢流等); 烘干设低温高品质晶硅表面;生部升级产链程在无尘车间完成运输包装避免过污染 感谢聆听 发展绿色产业,奉献清洁能源
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