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绍兴拓邦电子科技有限公司 技术创新 客户合作 拓邦科技版权所有 张震华 博士 14th CSPV 西安 2018-11-09 绍兴拓邦电子科技有限公司拓邦科技版权所有 2 背景介绍 碱刻蚀工艺介绍 碱刻蚀工艺结果 绍兴拓邦电子科技有限公司 降本提效是光伏发展的始终主旋律 拓邦科技版权所有 3 革命性变化 HJT/IBC 23 效率增长 造价降低 过去 标准工艺 18 – 19 革新性发展 PERC/MWT/TOPCon 19 – 23 表面优化 界面优化 结构优化 全新的电池结构设计 全新的生产工艺流程 全 新的电池材料 表面 /界面控制越来越精细 材料纯度要求越来越高 工艺结果要求越来越挑剔 成本控制越来越严 生产规模越来越大 管理要求越来越高 绍兴拓邦电子科技有限公司 PERC电池背表面工艺要求 背钝化镀膜 技术多样性 PECVD-AlOx、 ALD-AlOx、 PECVD-SiNOx 工艺要求高膜层厚度薄,均匀性好 背面金属化 激光开槽均匀性 金属电极制备质量 技术发展趋势要求 微晶硅( Poly-Si/不定型硅 a-Si镀膜 拓邦科技版权所有 4 背表面无复杂微细结构 背表面高平整度 /可控大尺寸结构 绍兴拓邦电子科技有限公司 PERC电池成本控制 拓邦科技版权所有 5 废水总氮中硝酸盐氮、亚硝酸盐处 理成本高 刻蚀段所用硝酸是硝酸盐氮的主要 来源 总氮处理成本超过 1200万元 /GW年 环保法规越来越严,地方准入问题 6分 /wfr 绍兴拓邦电子科技有限公司拓邦科技版权所有 6 制绒 扩散 刻蚀 /抛光 退火 PECVD镀膜 丝网印刷 背面刻蚀 碱洗 去正面 PSG 水洗 链式链式 链式 链式 HNO3, HF HFKOH 传统方案 拓邦方案 大量使用硝酸,废水处理 成本高,化学品成本高 常规 PERC酸抛反射率低, 电池效率有限 双面 PERC背面结构不可控, 双面率低 无氮工艺 硝酸 Free,HF降 低),化学品成本低 反射率高 10,电池转化 效率提升 0.15; 双面 PERC背面结构可优化, 双面率超过 80 槽式 去背面 PSG 碱刻蚀 后清洗 去正面 PSG 链式 槽式 槽式 HF KOH, 添加剂 HF PERC电池无氮高效刻蚀解决方案 Standalone equipment 绍兴拓邦电子科技有限公司拓邦科技版权所有 7 碱刻蚀添加剂保护正面 PSG不被 OH-刻蚀 碱刻蚀添加剂加速抛光HF去除背面及侧边 PSG 碱刻蚀化学品添加剂 无机碱 链式酸环境 化学品 HF 槽式碱环境 化学品无机碱 碱刻蚀添加剂 绍兴拓邦电子科技有限公司 碱刻蚀工艺要求 背面平整度要求效率增益体现 工艺适用范围 PERC及 PERC电池工艺兼容性 工艺稳定性工艺寿命、良率 设备成熟度投资风险控制、引入成本 工艺成本化学品成本、废水处理成本 拓邦科技版权所有 8 绍兴拓邦电子科技有限公司 碱刻蚀工艺表面处理效果 拓邦科技版权所有 9 碱刻蚀表面更平整, 没有表面微细结构 镀膜均匀性更好 表面积更小 更优异的钝化效果 更大的未来潜力 碱刻蚀 酸刻蚀 碱刻蚀 酸刻蚀 绍兴拓邦电子科技有限公司拓邦科技版权所有 10 碱刻蚀 减重 0.25g, 相比于 HF/HNO3酸 刻蚀 ,效率增益超过 0.15 效率增益同时体现在电流与电压的提升上 碱刻蚀与电池正面 SE技术完全兼容 配合产线后道工艺的匹配与优化,碱刻蚀产线效率还在稳定提升之中 常规 PERC Eta Voc Isc FF Rsh Rs 酸刻蚀 21.64 0.672 9.715 81.05 514.32 1.66 碱刻蚀 21.86 0.676 9.762 80.98 865.28 1.82 碱刻蚀工艺的技术兼容性 PERCSE Eta Voc Isc FF Rsh Rs 酸刻蚀 21.95 0.680 9.891 79.81 274.35 1.89 碱刻蚀 22.10 0.685 9.902 79.68 228.55 1.77 PERCMWT Eta Voc Isc FF Rsh Rs 酸刻蚀 22.10 0.6614 10.190 79.98 638.88 79.98 碱刻蚀 22.28 0.6630 10.191 80.49 646.96 80.49 绍兴拓邦电子科技有限公司 碱刻蚀工艺量产稳定性 拓邦科技版权所有 11 目前量产寿命已超过 160批 还在持续增加 槽式碱刻蚀杜绝了皮带印 /滚轮印造成的 EL不良 硅片减重还有进一步下调空间,降低碎片率 国内已实现碱刻蚀量产产能 1.5GW 绍兴拓邦电子科技有限公司 碱刻蚀设备需求 碱刻蚀设备组成 链式去背面 PSG设备 自动化机械臂(可选) 槽式碱刻蚀设备 设备成熟度高 设备产能大超过 6500wfr/hr 设备可集成 拓邦科技版权所有 12 绍兴拓邦电子科技有限公司 总结 拓邦科技版权所有 13 PERC PERCSE PERCTOPCon 碱刻蚀 效率增加 0.15以上 成本降低 7分 /wfr 提效 降本 绿水青山,才是金山银山 替代常规酸刻蚀工艺 设备简单、良率高、产能大 成熟 绍兴拓邦电子科技有限公司 拓邦核心技术 拓邦科技版权所有 14 制绒 扩散 刻蚀 镀膜 印刷 硅 /水界面控制 硅片表面清洁 OH-Si反应控制 HNO3/HFSi反应控制 OH-SiO2反应控制 HFSiO2反应控制 单晶制绒 多晶制绒 NaOH/KOH抛光 酸抛硝酸降量 碱边缘刻蚀 降本提效 绍兴拓邦电子科技有限公司 绍兴拓邦科技为您提供 拓邦科技版权所有 15 单晶 制绒 TB系列产品 高效率 提高 PERC电池效率 0.1 高产能 6min\10min制绒时间 碱 刻蚀 BP系列产品 高性能 提高电池效率 0.15 高环保 无氮工艺, PERC电池无需硝酸 硝酸 降量 NP系列产品 高性能 低硝酸用量、高反射率 高环保 降低硝酸用量,降低含氮废水处理费用 工艺 服务 整线工艺调试服务 保证电池效率提升 设备调试及改造 绍兴拓邦电子科技有限公司 感 谢聆听 联络人张震华 电话 86-13658059121 Email zzhangtoponetech.com.cn 拓邦科技版权所有 16
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