氧化铝镀膜工艺路线介绍-solarbe文库

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Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute 理想晶延 IDEAL DEPOSITION 2019年 08月 02日 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute  Perc Al2O3镀膜设备各工艺路线现状分析  理想板式 ALD设备优势介绍 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute 主流分类方法 板式 PECVD背面 AL2O3和背面 SINx二合一。代表厂商梅耶博格；四十八所；微导等（可拓展背面 AL2O3 、背面 SINx、正面 SINx三合一） 板式 ALD仅镀膜背面 AL2O3 ，搭配管 P或板 P完成整个镀膜工序。代表厂商理想； Solaytec等 管式 ALD 仅镀膜背面 AL2O3 ，搭配管 P或板 P完成整个镀膜工序。代表厂商 NCD；微导；松煜等 管式 PECVD背面 AL2O3和背面 SINx二合一。代表厂商商先创（ CT）；捷佳伟创；红太阳等 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute  Perc Al2O3镀膜设备各工艺路线现状分析  理想板式 ALD设备优势介绍 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute 业内首创平板式 ALD设备  兼具 ALD方式高成膜质量、低 TMA耗量和平板 In-line方式  电池效率高  绕镀最少，开机率高，最适合规模化量产  设备打破德国等进口设备垄断，已经为国内多家一线厂商采用，电池效率成为行业技术代表 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute 截止 2019年 6月底累计机台出货量超过 100台，累计出货产能超过 25GW。 设备完全兼容高效 N-Topcon电池，钝化效果优于市面同类设备，获得多家客户选贩，幵已实现大规模稳定量产主要客户 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute  模块化设计，适合产能扩展，当前最大产能 7500Pcs/h 设备只需更换载板就可完全兼容 Si片尺寸 156mm-170mm  独特工艺窗口设计，保证产能不受镀膜厚度影响在加快单位面积内沉积速度的同时保证了成膜质量 5mm-12mm区间内产能丌随镀膜厚度增加而降低  单面镀膜，绕度最少独特的非镂空托盘设计保证单面镀膜，绕度小于 0.5mm，  工艺窗口宽，钝化效果好，完美兼容 N型及 P型双面电池 N型片源少子寿命稳定大于 3000us；单面 J0小于 10FA/cm2 10nmAl2O3更加适配 P型双面电池上，叠加 SE技术提效明显进料上料 Pre-Heat ALD ALD LLO LLI 回料 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute 13  ALD反应特征是主要在基板上沉积，气相反应少，粉尘少  成膜致密性好，钝化效果好  采用托盘方式，回镀很少 TMA H2O 隔离气体 N2 隔离气体 N2 隔离气体 N2 substrate Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute N型客户量产钝化效果监控数据 1 lifetime平均在 5000us以上 2 单面 J0平均小于 6fA/cm2 测试路径 N型片源双面抛光双面 Al2O3退火 /烧结测试 N-sub Al2O3 Al2O3 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute P-type下， Al2O3厚度对少子和开压的影响，在绒面不抛光面会有丌同的结论（ Ptype双面 Al2O3 双面 SIN烧结测试）  P型双面绒面条件下， Al2O3厚度从 6nm增加 12nm过程中，少子寿命和开压均有提升，开压提升在 6mV左右  P型双面酸抛条件下， Al2O3厚度从 6nm增加到 12nm过程中，少子寿命和开压变化均丌明显，且在 12nm厚度下少子寿命和开压有略微的降低  以上数据可以得出结论，当做 P-type双面电池时，由于背面抛光无法像单面电池那样，会留有细微的绒面结构，所以增加 Al2O3的厚度对钝化效果是有帮助的 P-sub Al2O3 Al2O3 SiNx SiNx Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute  N型片源上在绒面和抛光面的结论相对一致， Al2O3从 8nm增加到 12nm时，少子寿命会有明显的提升；  而在 N型抛光片上实验， Al2O3从 8nm增加到 12nm时， J0会明显的下降；不文献报告上的 J0测试资料是完全相同的 N-sub Al2O3 Al2O3 Ntype双面 Al2O3 烧结测试 Copyright © 2018 Ideal Deposition Equipment and ApplicationsShanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential Document; Do Not Distribute  单面 ALD镀膜，工艺窗口宽，无 PID、 LID、 LETID问题没有多余的氧化铝介质层，丌使用特殊烧穿银浆；烧结工艺温度更低，更易优化。 PID ±1500V测试没有任何问题  更加适配双面电池，无背面 PID问题双面 PERC电池背面 SiNx厚度需降低至 70-80nm 双面 PERC电池上增加氧化铝的厚度可以稳定 /提升电池效率理想设备产能可以在 5mm-12mm区间内产能丌随镀膜厚度增加而降低  钝化效果优，设备完全兼容高效 N型电池空间型 ALD成膜质量高，钝化效果优于市场同类设备 N型片源少子寿命稳定大于 3000us；单面 J0小于 10FA/cm2 天合、晶科等 N型客户的选择，已投入稳定量产  自主开发镀膜设备，没有设备相关的专利隐患  可搭配管 P（低功率 N2 Plasma、渐进膜）进一步优化工艺，提升效率和产能感谢聆听