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精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS 精曜科技 Enabling Innovation 新型 TCO镀膜设备在光伏产业应用展望（ 2019年 3月无锡论坛）精曜科技闫峰 2019.3.20 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 精曜科技简介 2 成立 2008年 8月 12日，注册于英属开曼群岛主营业务经过 10年的精進发展，精曜公司已成长为一家全球重要的真空镀膜设备公司；公司有自主设备开发有力，主要产品包括 PECVD设备、 RPD设备、 LPCVD设备、自动化设备等；业务拓展领域包括太阳能电池、平板显示、 IC等产业，并为相关产业提供关键生产设备。精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 精曜设备应用于太阳能技术的领域 3 异质结 PECVD RPD 铜铟镓锡 LPCVD 钙钛矿 RPD LPCVD 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 6年来市场业绩 4 太阳能电池技术种类向相关市场提供的设备工艺站点数量量产效率异质结 RPD TCO 4 ＞ 23 PECVD 非晶硅层 2 ＞ 23 铜铟镓锡 LPCVD TCO 21 17 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 新型镀膜设备 RPD 5 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 传统 TCO技术 Sputter原理 6 Ar气在高电压下电离产生 Ar Ar受到电场与磁场引导 Ar打到靶材上靶材原子下落沉积在衬底上特点  工艺温度高（ 150度以上）  沉积速率较慢  对非晶硅轰击较强  薄膜结晶度低，粗糙度较高  薄膜透过率较低，电阻率高精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 新型 TCO技术 RPD原理 7 等离子体枪中产生 Ar Ar进入到生长腔室磁场引导 Ar打到靶材上靶材升华再沉积在衬底上优点  工艺温度低（常温）  沉积速率快  对非晶硅轰击弱  薄膜结晶度高，粗糙度低  薄膜透过率高，电阻率低精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD vs Sputter 8 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 1 低离子轰击 9 RPD SPT Ref. to the paper of Pf. Sugai of Nagoya Univ. *Low ion energy prevent a-Si/TCO interface from bombardment damage 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 2优异的结晶特性 10 RPD Ra, 0.7nm SPT Ra, 2nm Ref. to the paper of Pf. Shigesato. *RPD gives strong crystalline prefer orientation and smooth surface 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 11 mobility80 cm2/Vs High mobility and low IR absorption RPD的优点 3 优异短路电流（基于 IWO 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD的优点 3优异短路电流（基于 ICO 12 mobility130 cm2/Vs High mobility and low IR absorption Eiji Kobayashi and Yoshimi Watabe, 29th EuPVSEC σ neμ ;μ ↑ -n↓ λ PC/ne2/m*ɛ01/2; n↓ -λ P↑ RPD SPT 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 13 公司效率国家面积（ cm2） TCO 沉积技术松下 24.70 日本 100,厚度 98um IWO RPD kaneka 24.20 日本 171 IOH RPD CIC 24.10 日本 156单晶 IWO/ICO RPD 晋能 24 中国 156单晶 IWO RPD AUO 23.10 中国台湾 240 IWO RPD 赛昂 23.10 USA 240 IOH Sputtter 东芝 EC 23.40 日本 240 IOH Sputter 上澎待补充中国 156单晶 IWO Sputter MB 22.80 德国 240 ITO Sputter CSEM 22.80 欧洲 240 ITO Sputter CEA-INES 22.80 欧洲 229 ITO/IOH Sputter EPFL 22.40 欧洲 4 ITO Sputter 市场上有关 HJT电池 TCO设备使用情况注此页内容均来不同时期公开发表的资料，然因整理仓促，个别数据可能有些许出入，业内同仁可协助修正。无论是在实验开发，或是在批量生产中，因 TCO站采用不同的设备和工艺，异质结电池实验效率或量产效率均有着明显差异。从国内外研发机构和电池厂商发表的数据结果看， RPD 制备下的异质结电池总体比 PVD约有 0.5 1的效率优势。精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar RPD vs. PVD on cells performance  2018年某国内客户量产数据统计， RPD比较传统 PVD设备可提高 0.4的绝对值效率  目前 RPD站的工艺开发尚处于初级阶段，后续提升空间较大 RPD vs. sputter 电池对比基于 ITO与 IWO sputter RPD RPD gain Isc a a0.15A 1.59 Voc b b2mV 0.27 FF c c0.05 0.06 Eff d d0.4 1.83 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 精曜 RPD系统反应式等离子镀膜设备 Item Standard 2 Guns tray size 1140 mm x1290 mm Wafers/tray 35 pcs 5 x7 Cycle time 48 secs UPH 2625 pcs/hr Dimensions 6.2 m x 12 m x 2.2 m LC BC1 TR1 TR2 TR3 BC2 ULC  RPD设备已经过 10余年的量产验证  Panasonic 1GW HJT全部使用 RPD镀膜设备  住友重工授权精曜全球制造与销售 15 精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 16 RPD和 PVD的电性能对比精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 精曜 RPD设备 - 高产品良率量产良率稳定在 98以上，平均 98.5以上。精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com RPD與 PVD量产成本比較 2018测算模型 PVD RPD RPD 电池效率 22.5 23.0 23.0 组件成本（元 /瓦） 2.18 2.13 2.13 组件功率（瓦） 317 324 324 售价（元 /瓦） 2.5 2.5 2.6 毛利 12.68 17.64 22.35 电池产能 MW 97.86 100 100 组件产能 MW 94.93 97.00 97.00 总收益（亿元） 2.37 2.43 2.52 毛利（亿元） 0.30 0.43 0.56 100MW RPD设备价差，约在一年内回收精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com 产业合作促进技术进一步升级 19 设备产能提升及附助技术精进提升自动化设备匹配度，满足高产能需要靶材成本降低和靶材技术升级精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar Summary  RPD工作原理采用高密度低能量离子束，而非高电压动能驱动。 RPD制备下，离子轰击能量 80 cm2/Vs，优于 PVD  RPD制备下，低自由载子吸收确保有高的长波长穿透率  RPD量产中比较传统 sputter设备可提高 0.4的绝对值效率（基于溅射 ITO  RPD设备及工艺的改善空间大，将可进一步提高产能，降低生产成本精曜 RPD 帮助客户赢在高效率、低成本的起跑线 20  RPD与 PVD相比，属于 HJT电池生产 TCO站的跨跃性升级技术，其可帮助 HJT拉大与 PERC、 Topcon等技术的效率差距，保持 HJT电池在效率上的绝对领先性，提高 HJT电池组件的综合性价比和市场活力。精曜科技 ARCHERS SYSTEMS CONFIDENTIAL www.ArchersSystems.com精曜科技 RCHERS SYSTEMS AL Ar 谢谢 21