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黑硅龟裂纹分析报告 2017年 11月 18号 龟裂纹 EL龟裂纹外观无法看出，效率偏低 0.2-0.4，电性能上，开路电压，短路电流均会明显下降，填充 因子小幅度下降。 龟裂纹的成因分析  来料方面 来料方面的龟裂纹主要集中在片子边缘，单一边缘 或呈 L型分布。 龟裂纹的成因分析  制绒方面 制绒方面产生龟裂纹一般都是遍布整个硅片。可能原因如下 1、脱银不干净 金属 Ag颗粒在高温扩散过程中，在晶界位置迁移速率快，扩散在晶界中，形成载流子复合中心。（ 可能性低） 2、 扩孔后碱洗槽中带入过多的 HF 理论分析两种机理 （ 1） HF与 KOH反应生成 KF。 KF在双氧水的作用下反应破坏了孔型结构。（可能性大） （ 2） HF与 KOH反应产生的盐，贴附在硅片表面，后续未洗净，造成污染。 解决方案监控下扩孔后水洗的 PH值，在 PH值很低的时候更换水洗。加大碱洗槽 KOH的补加量。 3、碱洗槽双氧水缺少，不断反应。严重时外观晶花明显。 4、碱洗槽中多孔硅未清洗干净。 5、扩孔反应不完全。 扩孔反应不够，孔型中有大量尖凸结构，以及孔中颗粒状未去除干净。在低反射情况下明显。 17以 上反射率基本消失。 谢谢谢谢
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