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硅片扩散前的表面准备硅片扩散前的表面准备 邵爱军邵爱军 2005年年 11月月 1 概概 述述 形成起伏不平的绒面,增加硅片对 太阳光的吸收 去除硅片表面的机械损伤层 清除表面油污和金属杂质 硅片表面处理的目的 2 概述硅片表面的机械损伤层概述硅片表面的机械损伤层 (一)硅锭的铸造过程(一)硅锭的铸造过程 单晶硅 多晶硅 3 概述硅片表面的机械损伤层概述硅片表面的机械损伤层 (二)多线切割(二)多线切割 4 概述硅片表面的机械损伤层概述硅片表面的机械损伤层 (三)机械损伤层(三)机械损伤层 硅片 机械损伤层( 10微米) 5 概述金属杂质对电池性能的影响概述金属杂质对电池性能的影响 6 概述表面织构化概述表面织构化 单晶硅片表面的 金字塔状绒面 单晶硅片表面反射率 7 化学腐蚀的原理化学腐蚀的原理 ü 热的 NaOH溶液去除硅片表面机械损伤层 ü HF去除硅片表面氧化层 ü HCl去除硅片表面金属杂质 盐酸具有酸和络合剂的双重作用,氯离子能与 Pt 2、 Au 3、 Ag 、 Cu 、 Cd 2、 Hg 2等金属离子形成可溶于水的络合物。 8 注意事项 w 在工序 1中氢氧化钠溶液与硅片反应时 会有碱蒸气产生,故设备运行时请关 闭玻璃门。 w 盐酸是挥发性强酸,不要去闻其味道 w 氢氟酸会腐蚀玻璃,故不与玻璃器械 接触,也不要去闻氢氟酸的味道。 w 如果酸或碱不小心溅入眼内或溅到脸 上,请立即打开洗脸洗眼池上盖冲洗 。 9 注意事项注意事项 NaOH、 HCl、 HF都是强腐蚀性的化学药品,其 固体颗粒、溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、 呼吸道,所以操作人员要按照规定穿戴防护服、 防护面具、防护眼镜、长袖胶皮手套。一旦有化学 试剂伤害了员工的身体,马上用纯水冲洗 30分钟, 送医院就医。 10
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