⼤⾯积钙钛矿组件的制造⼯艺-范斌协鑫-solarbe文库

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2020.12.19⼴州范斌⼤⾯积钙钛矿组件的制造⼯艺钙钛矿组件⽣产⼯艺概括⼴义的PVD物理⽓相沉积，包括磁控溅射、电⼦束蒸发等，但是习惯上通常不包括蒸镀我们的PVD⼯艺⽤于前电极、阳极缓冲层、阴极缓冲层和背电极磁控溅射的设备结构简单，但⽤于往钙钛矿层上镀膜时需要⼩⼼控制镀膜⼯艺，以免溅射出来的材料对钙钛矿层造成损伤 RPD的⼯作原理是由磁场对Ar等离⼦体中的电⼦进⾏偏转，定向轰击在靶材上之后使靶材上的材料升华，沉积效果类似于蒸镀 PVD⼯艺 PVD设备外观靶材侧泵组侧涂布⼯艺锂电池电极材料涂布Konarka Heliatek 涂布⼯艺涂布是⼀种⼴泛应⽤的⼯艺，包括刮涂、线棒、Slot-die等许多种⼯艺，最适合于钙钛矿层涂布的是Slot-die⼯艺。（因为最好控制） Slot-die⼯艺可⻅于锂电池、显示⾯板、OLED照明等产品的精密制造环节，它们的精度要求⾄少不低于钙钛矿溶液的涂布。有兴趣从事此环节研究，不需要对设备进⾏⾃主开发，想要的都买得到。⼯艺重点在于控制凝结核的⽣成速度溶剂挥发过程，以及⼤部分溶剂挥发之后的热处理，对于晶体的质量都有重⼤影响材料配⽅（包括混合溶剂选择、添加剂选择）对结晶效果同样重要我们选择涂布-结晶⼯艺来制造钙钛矿层并不是因为湿法便宜，⽽是因为效果好结晶⼯艺激光⼯艺包括划线和清边，划线是为了串联，清边是为了封装激光⼯艺的组件化成本，显著低于晶硅的组件化成本，是钙钛矿组件成本下降的主要来源之⼀激光⼯艺封装封装双玻组件，POE胶膜封装，丁基胶封边真空热层压⼯艺（和晶硅组件没什么区别）封装很⼤程度上决定了组件的寿命，封装良好的钙钛矿组件寿命不会⽐晶硅短稳定性问题钙钛矿组件制造技术的发展⽅向钙钛矿的制造⼯艺⼏乎与晶硅没有任何关系，应该更多地参照显示⾯板的发展路径制造尺⼨越⼤，单位⾯积⽣产成本越低⾮晶硅制造放⼤没有形成优势，⼀是因为⾮晶硅技术本来就没有希望，⼆是因为过⾼的⼯艺温度导致玻璃的变形很难避免串联叠层意味着放弃把钙钛矿做⼤的可能性与晶硅叠层的问题通过电压匹配实现⼆端输出保持了钙钛矿的⼤⾯积⼯艺优势不需要对钙钛矿的⽣产⼯艺进⾏特殊开发电压匹配可以保持硅电池的双⾯性电压匹配可以更好地应对太阳光谱的周期性变化并联叠层叠层组件的经济性系统造价包括组件价格，以及⼟地、⼈⼯、⽀架、电缆、逆变器等所谓BOS BOS⾥⼤体⼀半与功率相关，⼀半与⾯积相关，提⾼组件效率可以降低⾯积相关部分的成本假设叠层组件的成本⽐晶硅组件⾼30，则叠层组件的效率只需要达到25，叠层组件的性价⽐就会超过晶硅组件但是叠层组件的效率必须达到31以上才能在东部地区达到⽔电的成本线叠层组件的经济性如果钙钛矿组件的价格达到1.2元，其效率在 16以上，性价⽐就会优于晶硅组件；要在东部地区达到⽔电的⽔平，需要23的组件效率。如果钙钛矿组件的价格达到0.8元，其效率只需要12，性价⽐就会优于晶硅组件；在东部地区达到⽔电的⽔平，只需要17的组件效率。