【CITPV】GW级SHJ电池高端PECVD设备国产化-solarbe文库

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ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved上海理想万里晖薄膜设备有限公司 2 0 1 9 0 9 杭州GW级SHJ电池高端PECVD设备国产化Ideal Energy Shanghai Sunflower Thin Film Equipment Ltd. ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 目录p公司介绍p理想万里晖的主要产品介绍p理想万里晖的PECVD在研发和产线的表现p理想万里晖的产品路线图p新一代产品5 0 0 MW产能的PECVD设备 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved3 母公司理想能源设备（上海）有限公司成立于2009年8月，是国内领先的清洁能源与光电节能高端装备开发商，注册资本1.94亿元，核心团队来自全球知名企业。2010年1月8日，首台中国造高端太阳能电池关键生产设备下线。 PECVD团队累计承担国家科技部863、上海市战略新兴重大产业等6项科研项目，申请超过50项国内外专利，填补多项国内空白，奠定国内高端PECVD设备第一的地位。2017年1月，上海万里晖全资子公司理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司在泰兴高新区成立。2019年3月底，泰兴政府代建代装修22000m2厂房交付使用。2017年10月理想万里晖顺利完成首台SHJ用量产型PECVD产品发货。打破国外供应商垄断，已成为国内新建SHJ产线的首选PECVD供应商。 2012年4月，上海理想万里晖薄膜设备有限公司自母公司理想能源PECVD事业部拆分，并于2013年5月注册完成，为中外合资企业，注册资本5212万元（股权结构理想能源公司66，创业团队威定公司34）。公司简介 2019年5月，上海理想万里晖薄膜设备有限公司获得A轮投资。2019年6月20日，首台双层HJT量产型PECVD设备生产的SHJ电池下线成功，转换效率达到23。 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 主营泛半导体和半导体领域高端PECVD装备PINE-AM-C-5PINE-M-R-5OAK-L-5 OAK-U-5 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved PECVD设备得到中央和上海政府肯定Ø 多年来一直获得政府支持；Ø 理想万里晖研制的PECVD设备打破了该领域设备一直被国外厂商垄断的局面，实现高端装备中国造；Ø 中央政府门户网站、新华网、科技日报、解放日报等国内多家媒体予以报道。http//www.gov.cn/jrzg/2011-01/08/content_1780635.htm 支持项目支持单位国家8 6 3 项目国家科技部上海战略新兴产业重大项目（3 次）上海市发改委上海市科技创新行动计划上海市科委上海市科学发明奖、浦东新区科学进步奖上海市科委、浦东新区科委上海市专利试点企业上海市知识产权局 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 863专家组评价 p 863专家组评价理想制造的PECVD制备设备在RF射频自动调频匹配技术方面具有独创性。 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 目录p公司介绍p理想万里晖的主要产品p理想万里晖的PECVD的产线表现p理想万里晖的产品路线图p新一代产品5 0 0 MW产能的PECVD设备 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 主营泛半导体和半导体领域高端PECVD装备Ø PINE-M-R-5Ø OAK-L-5Ø OAK-U-5Ø OAK-DU-5Ø PINE-AM-C-5 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 理想万里晖用于HJT的PECVD设备RDPINE-M-R-560MWOAK-U-5 120MWOAK-DU-5Launch in 2019 2018 Global Market share ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 抽屉式反应腔竞争策略开发的系列产品，从研发到大规模生产，均采用相同的核心模块反应腔抽屉式反应腔可放入不同型号的设备工艺共享研发工艺可直接导入量产设备大规模生产 8 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 双真空反应腔优势Single chamber 反应腔形变大下极板加热，不够均匀易产生颗粒（partical）气体消耗大反应腔形变小上下极板同时加热气体消耗小仅为传统1/8热漂移（thermo-phoresis effects）等离子自清不彻底，经常打开腔体维护不易产生颗粒物或粉尘不易产生热漂移清理彻底，无需开腔维护单真空反应腔双真空反应腔 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 世界领先的等离子体匹配系统（0.3s稳定）等离子体稳定時间是生长优质界面的关键。Gas in Pumping Impedancematching network 10HJT电池四层非晶薄膜只有5-10nm，工艺时间短，甚至只有10秒以内。因此，缩短等离子体起辉稳定时间对非晶硅薄膜的表面钝化效果极为重要。 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 不同匹配方式的等离子体稳定時间和反射功率典型工艺中使用频率扫描-固定匹配系统，等离子体可在0.3s内红线快速稳定；而使用传统固定频率-机械调整匹配系统，等离子稳定时间超过1s 黑线，且匹配过程中反射功率较高，等离子体容易不稳定。11 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved Oak-U-5的设计理念 Cassette InCassette Out HM1PM1PM2HM2PM3PM4 Gen 5, PM1 Filtered air chamber ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 目录p公司介绍p理想万里晖的主要产品p理想万里晖的PECVD在研发和产线的表现p理想万里晖的产品路线图p新一代产品5 0 0 MW产能的PECVD设备 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 产品表现和客户评价Ø PINE-M-R-5研发设备24.85 efficiency ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 产品表现和客户评价Ø 自2 0 1 2 年6 月，此研发设备在汉能成都研发中心开始使用，在7 天2 4 小时的研发运营下，稳定地使用7 年之久。Ø 2019年8月，ISFH认证电池效率24.85，创造了新的世界记录。汉能SHJ电池片技术原理图和ISFH认证 I-V曲线 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved OAK-U-5 产线设备的现状 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved OAK-U-5 的订单和设备制造现状已经发货600 MW已有120 MW 在量产已获得 2 GW 设备订单具有22,000 M2 制造场地 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 产品表现和客户评价客户生产线的表现ØHJT电池的平均转换效率～23.3Ø产线电池良率99.8，Ø设备稼动率（uptime） 90Ø设备经过近2 年的量产考验，性能稳定，表现优异。 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved OAK-DU-5产线设备现状 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved OAK-DU-5 Tact time 1 3 5 S目标产能 3 0 0 0 片/hr 1 5 6 mm目标效率 2 3 .5 稼动率 9 0 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 双层工艺反应腔室 Doubled Throughput ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 2018年，理想的PECVD中标100MW异质结项目战胜欧美日一流的半导体设备大公司竞争对手为全球最大的半导体设备公司包括美国应材欧洲梅耶博格日本真空OAK-DU-5 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 2019年1月中标某公司100MW异质结项目2019年4月29日首台SHJ叠层PECVD设备正式启运2019年6月20日第一片电池出片（23）OAK-DU-5 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 目录p公司介绍p理想万里晖的主要产品p理想万里晖的PECVD在研发和产线的表现p理想万里晖的产品路线图p新一代产品5 0 0 MW产能的PECVD设备 ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights ReservedRD 6 0 MW 1 5 0 MW 5 0 0 MW目标产能 1 0 0 0 0 片/hr M6 硅片目标效率 2 3 .5 稼动率 9 0 理想万里晖PECVD设备开发的技术路线图每GW（SHJ电池）设备总投资1 2 0 MW ConfidentialCopyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved 目录p公司介绍p理想万里晖的主要产品p理想万里晖的PECVD在研发和产线的表现p理想万里晖的产品路线图p新一代产品5 0 0 MW产能的PECVD设备 Copyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential 理想万里晖叠10层PECVD在客户产线运行PINE-AM-C-5对应1 0层反应腔1 0个观察窗分别 Copyright © 2009 Ideal Energy Equipment Shanghai Ltd, All Rights Reserved Confidential 理想万里晖叠10层的PECVD设备叠1 0层反应腔