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N 型太阳能电池叠层膜钝化技术研究 郎芳 王子谦 张伟 李锋 史金超 光伏材料与技术国家重点实验室 英利能源(中国)有限公司 摘要本文从提升 N 型太阳能电池表面钝化入手,分析了单层膜 SiNx、双层膜 SiNx/SiOx 或 SiNx/AlOx 及三层膜 SiNx/ AlOx /SiOx 对 N 型太阳能电池表面钝化的不同作用。实验结果表明, SiNx/AlOx/SiOx 三层膜可以实现对 N 型太阳能电池硼发射极表面的优异钝化。在烧结过程中, 氢从 SiNx 扩散到 SiOx/Si 界面提供了极好的化学钝化。p型表面达到更好的表面钝化是通过 SiNx/AlOx/SiOx 三层膜提供的场效应钝化和化学钝化共同作用的结果。 关键词表面钝化膜;SiN x/ AlOx /SiOx;N 型太阳能电池 通讯作者郎芳 研究方向N 型高效太阳能电池技术 Emailfang.langyingli.com 1. 研究背景 目前,N 型硅材料正日益受到光伏产业和科学界的关注。一些优点使得它更适合于高效率 太阳能电池的制造 [1]。首先,N 型材料对常见的金属污染物(如 Fe)具有更大的耐受性,这对 少数载流子寿命有明显的影响。与具有类似杂质浓度的 P 型 C-Si 衬底相比,这种优势可能导致 更高的少数载流子扩散长度。此外,N 型材料不受硼氧缺陷的影响,这对于 P 型 C-Si 沉底的太 阳能电池极易产生光诱导衰减。 [2,3] 晶体硅光伏行业的发展趋势是要制造出更薄、更高效的电池片。当硅片厚度小于少数载流 子的扩散长度时,电池表面的复合速率对效率的影响就显得非常重要 [4]。随着硅片厚度的减薄, 硅片的表面复合越来越重要,因此更需要开发更优异的表面钝化方法。通过改善表面钝化的质 量来降低表面复合速率已经成为提高电池效率的主要手段之一。 通过 AlOx 膜层钝化 N 型太阳能电池的 p发射极表面已经引起了光伏界的极大兴趣。采用 ALD、PECVD、溅射等技术制备的钝化 AlOx 层,可以获得高水平的表面钝化。本文介绍了用 Al2O3 钝化 p发射极表面的 N 型太阳电池的一些实验进展。我们发现 Al2O3 层的钝化效率随着 薄 SiO2 中间层的增加而增强。在 SiNx/AlOx/SiOx 三层膜上钝化的电池性能最优。 2. 研究结果与讨论 本实验采用 156156mm 的 N 型硅片,电阻率 1-3Ω·cm,厚度为 200μm。实验过程全部采 用英利 N 型电池量产设备。 2.1 实验过程 硅片首先碱制绒,形成双面织构化金字塔结构。随后通过 POCl3 源扩散形成方块电阻为 30Ω/sq 的背面场。接着通过 BBr3 源扩散形成方块电阻为 60Ω/sq 的发射极。在 HF 溶液中浸泡 以去除硼硅玻璃和磷硅玻璃。之后将硅片随机分为四组A 、B 、C 和 D 组,B 组和 D 组在硝 酸水溶液中进行清洗,在硅片的上下表面制备薄 SiOx 钝化层,膜层厚度约 1nm。C 组和 D 组在 180℃接受热 ALD 工艺,形成薄的 AlOx 钝化层,膜层厚度约 5nm。此后,通过 PECVD 工艺在 所有这些硅片上沉积相同的 SiNx 减反射膜,膜层厚度约 80nm。在不同组的硅片发射极的表面 上形成不同的钝化层,见表 1。通过丝网印刷方法形成金属接触,并选取温度为 750℃的烧结条 件下完成太阳能电池工艺。实验同时制备 a、b、c、d 四组不同膜层在硅片上下表面成膜形成的 双面对称结构,即 p/n/p结构进行后续分析测试。 2.2 实验结果 根据上述过程制成太阳电池,在标准测试条件下测试结果见表 2。只采用 SiNx 作为钝化层, 电池效率非常低,主要表现为开路电压和短路电流非常低。采用双层膜堆叠钝化,无论是 SiNx/SiOx 或是 SiNx/AlOx 堆叠,两组得到较为一致的电池结果。两组的开路电压、短路电流参 数也非常接近,因此可以判断出两种堆叠膜层在 N 型太阳能电池表面的钝化性能相当。SiN x/ AlOx /SiOx 三层膜堆叠钝化得到最高的太阳电池转换效率,其开路电压和短路电流较 A、B、C 组均有明显的提升,达到了最好的表面钝化效果。 表 1. 不同分组的硅片表面钝化膜层. 太阳电池分组 p/n/p器件 钝化膜层 A a SiNx B b SiNx/SiOx C c SiNx/AlOx D d SiNx/AlOx /SiOx 表 2. 不同钝化膜层的太阳电池参数中间值AM1.5G, 100 mW/cm 2, 25℃. 太阳电池分组 钝化膜层 UocV IscA/cm2 FF Efficiency) 膜层厚度 (nm ) A SiNx 0.623 37.29 78.93 18.34 80 B SiNx/SiOx 0.651 39.07 80.84 20.57 80/1 C SiNx/AlOx 0.651 39.05 80.82 20.54 80/5 D SiNx/AlOx /SiOx 0.654 39.53 80.35 20.78 80/5/1 2.3 测试表征与讨论 对 a、b、c、d 四组覆盖了不同钝化层的 p/n/p双面对称结构进行分析测试。通过测量这 些样品的有效寿命,我们可以进一步了解不同膜层之间的差异。图 1 显示了不同钝化膜层下测 量的这些样品的有效寿命,样品在烧结前后分别进行测量。 图 1. 样品的有效寿命(样品在烧结前后分别进行测量)。 由图 1 可见对于单层 SiNx 的样品,其有效寿命非常低,并且在烧结前后几乎相同,表明 SiNx 对 P型表面钝化的影响非常有限。具有 SiNx/SiOx 双层膜的样品,烧结前与 SiNx 样品具有 相同的有效寿命,但烧结后其寿命提高了近十倍,这主要是由于 SiNx 和 SiOx 的联合作用, SiNx 层是氢的储层,含氢原子扩散到 SiOx/Si 界面并钝化悬挂键,通常称为化学钝化。在 SiNx/AlOx 堆叠钝化样品的情况下,烧结前的有效寿命比 SiOx/SiNx 堆叠钝化的样品高约 2 倍, 这可能是由于在 AlOx 层的沉积过程中存在的固定负电荷,导致场效应钝化,烧结后其有效寿命 大幅增加。最高有效寿命来自于 SiNx/AlOx/SiOx 三层膜样品。该样品在烧结前就具有较高水平 的表面钝化,此时的寿命几乎等于 SiNx/AlOx 烧结后的样品,这意味着 SiOx 中间层增强了钝化 效应,大大降低了界面缺陷密度,烧结后钝化效果大大提高。 3. 结论 实验结果表明,SiN x/AlOx/SiOx 三层膜可以实现对 N 型太阳能电池硼发射极表面的优异钝 化。在烧结过程中,氢从 SiNx 扩散到 SiOx/Si 界面提供了极好的化学钝化。p 型表面达到更好 的表面钝化是通过 SiNx/AlOx/SiOx 三层膜提供的场效应钝化和化学钝化共同作用的结果。 参考文献 [1] Jan Benick, Oliver Schultz-Wittmann, Jonas Schön, and Stefan W. Glunz, “Surface passivation schemes for high-efficiency n-type Si solar cells,“ physica status solidi RRL – Rapid Research Letters 2 4, 145-147 2008. [2] Manabu Itsumi, Yoshiyuki Sato, Kazuo Imai, and Norikuni Yabumoto, “Characterization of metallic impurities in Si using a recombination-lifetime correlation method,“ Journal of Applied Physics 82 7, 3250-3255 1997. [3] Daniel Macdonald and L. J. Geerligs, “Recombination activity of interstitial iron and other transition metal point defects in p- and n-type crystalline silicon,“ Applied Physics Letters 85 18, 4061-4063 2004. [4] ABERLE A G. Surface passivation of crystalline silicon solar cells a review [J]. Progress in Photovoltaics, 2000,85473-487.
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